光刻胶是微电子技术中微细图形加工的关键材料之一,也是当前技术门槛最高的微电子化学品之一。光刻胶可通过光化学反应,经曝光、显影等光刻工序将所需要的微细图形从光罩转移至待加工基片上。该待加工基片有的是集成电路材料、显示面板材料,还有的是PCB(印刷电路板)等。因此,光刻胶也是当前电子领域重要的基础应用材料之一。
早期的电器功能非常简单,例如传统的座机电话只有接听、通话等功能,如今的智能手机则需要实现复杂多样的功能。电路板也从曾经简单的单面板、双面板发展到了如今的多层复合形态。
如何实现这些复杂的电子功能?“这就需要利用感光油墨及其配套设备,在基板上通过涂抹、曝光、显影、蚀刻等步骤做出电子线路。这个过程就犹如洗照片一样,将画面呈现在相纸上。”这种感光线路的原理与现在常说的“光刻”一样,唯一不同的是应用领域的差别。电子感光化学材料配方设计及制造工艺控制技术可根据客户产品个性化要求持续优化产品配方、提高产品批次稳定性,并研制新的感光电子化学材料,使公司产品可以与下游行业发展趋势同步,保证产品具备各种不同性能及稳定性。